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反应釜制冷加热系统,单流体系统

简要描述：反应釜制冷加热系统,单流体系统的典型应用：
高压反应釜冷热源动态恒温控制、双层玻璃反应釜冷热源动态恒温控制、双层反应釜冷热源动态恒温控制；
微通道反应器冷热源恒温控制、小型恒温控制系统、蒸饱系统控温、材料低温高温老化测试；
组合化学冷源热源恒温控制、半导体设备冷却加热、真空室制冷加热恒温控制。

  • 产品型号：无锡冠亚
  • 厂商性质：生产厂家
  • 更新时间：2024-01-01
  • 访  问  量：603
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详情介绍
品牌 LNEYA/无锡冠亚 价格区间 面议
产地类别 国产 应用领域 石油,电子,印刷包装,汽车,电气

<strong><strong><strong><strong>反应釜温控设备价格,温控一体机价格</strong></strong></strong></strong>

 

适合化工、制药、生化等低温反应设备

全密闭管道式设计，高效板式热交换器， 应用于对玻璃反应釜、金属反应釜、生物反应器进行升降温、恒温控制，尤其适合在反应过程中有需热、放热过程控制。
应用于对玻璃反应釜、金属反应釜、生物反应器进行升降温、恒温控制，尤其适合在反应过程中有需热、放热过程控制

 

型号 SUNDI
-225
SUNDI
-225W		 SUNDI
-235
SUNDI
-235W		 SUNDI
-255
SUNDI
-255W		 SUNDI
-275
SUNDI
-275W		 SUNDI
-2A10
SUNDI
-2A10W		 SUNDI
-2A15
SUNDI
-2A15W		 SUNDI
-2A25
SUNDI
-2A25W		 SUNDI
-2A38W		 SUNDI
-2A60W		 SUNDI
-2A95W		 SUNDI
-2A130W		 SUNDI
-2A200W
介质温度
范围		 -25℃～+200℃
控制系统 前馈PID ,无模型自建树算法，PLC控制器
温控模式
选择		 物料温度控制与设备出口温度控制模式 可自由选择
温差控制 设备出口温度与反应物料温度的温差可控制、可设定
程序编辑 可编制10条程序，每条程序可编制40段步骤
通信协议 MODBUS RTU 协议  RS 485接口
外接入温
度反馈		 PT100或4～20mA或通信给定（默认PT100)
温度反馈 设备导热介质 温度、出口温度、反应器物料温度（外接温度传感器）三点温度
导热介质
温控精度		 ±0.5℃   ±1℃
反应物料
温控精度		 ±1℃ ±1.5℃  
加热功率
kW		 2.5 3.5 5.5 7.5 10 15 25 38 60 95 130 200
制
冷
量
kW
AT
℃		 200 2.5 3.5 5.5 7.5 10 15 25 38 60 95 130 200
100 2.5 3.5 5.5 7.5 10 15 25 38 60 95 130 200
50 2.5 3.5 5.5 7.5 10 15 25 38 60 95 130 200
20 2.5 3.5 5.5 7.5 10 15 25 38 60 95 130 200
-5 2 3 4.5 6.6 8 12 19 30 46 70 80 125
-20 1 1.8 2.8 3.8 4.6 7 12 16 22 32 43 65
流量压力
max 
L/min 
bar		 20 35 35 50 75 110 150 200 250 400 400 600
2 2 2 2 2.5 2.5 2.5 2.5 2.5 2.5 2.5 2.5
压缩机 三菱 艾默生谷轮/丹佛斯涡旋压缩机 意大利都凌半封闭活塞压缩机
膨胀阀 丹佛斯/艾默生热力膨胀阀
蒸发器 丹佛斯/高力板式换热器
操作面板 7英寸彩色触摸屏，温度曲线显示、记录
安全防护 具有自我诊断功能；冷冻机过载保护；高压压力开关，过载继电器、热保护装置等多种安全保障功能。
密闭循环
系统		 整个系统为全密闭系统，高温时不会有油雾、低温不吸收空气中水份，系统在运行中不会因为高温使压力上升，低温自动补充导热介质。
制冷剂 R-404A
接口尺寸 G1/2 G3/4 G3/4 G1 G1 G1 DN32 DN40 DN40 DN50 DN65 N65
水冷型
AT 20度
1.5~4bar		 600
L/H		 800
L/H		 1000
L/H		 1200
L/H		 1600
L/H		 2200
L/H		 6m³/H 10m³/H 14m³/H 20m³/H 28m³/H 36m³/H
外型尺寸
(风) cm		 45*85
*130		 45*85
*130		 55*100
*175		 55*100
*175		 70*100
*175		 80*120
*185		 100*150
*185		 / / / / /
外型尺寸
(水) cm		 45*85
*130		 45*85
*130		 45*85
*130		 45*85
*130		 55*100
*175		 55*100
*175		 80*120
*185		 100*150
*185		 205*145
*205		 205*145
*205		 245*145
*2250		 275*160
*225
隔爆尺寸 
cm		 45*110
*130		 45*110
*130		 55*120
*170		 55*120
*170		 70*125
*175		 80*145
*185		 105*120
*185		 105*120
*185		 205*145
*205		 205*145
*205		 205*145
*205		 275*160
*225
正压尺寸
(水)cm		 110*95
*195		 110*95
*195		 110*95
*195		 110*95
*195		 110*95
*195		 135*145
*195		 (135+
60)*145
*225		 (135+
60)*145
*225		 (185+
60)*145
*225		 (185+
100)*145
*225		 (185+
100)*145
*225		 (185+
150)*165
*225
重量kg 115 165 185 230 280 300 550 750 1000 1250 1580 2150
电源 
380V 
50HZ		 4kW 6kW 8kW 11kW 14kW 21kW 34kW 52kW 79kW 123kW 165kW 260kW

 

反应釜制冷加热系统,单流体系统

反应釜制冷加热系统,单流体系统

　　反应釜设备的安装及使用细节介绍

　　反应釜设备是通过油浴锅（槽）注入恒温的（高温或低温）热溶液或冷却液，对反应釜内的物料进行恒温加热或制冷，并且可以提供搅拌。此设备可以进行真空搅拌反应，蒸馏浓缩反应，分离萃取，反应发热实验，我们可以在油浴锅中通过冷凝盘管通自来水从而达到迅速降温的效果，物料在反应釜内进行反应，并能控制反应溶液的蒸发与回流，反应完毕，物料可从釜盖开口或者釜底的下出料口放出，操作为方便。

　　反应釜配套温控系统应用

　　1、化工、制药或生物领域双层及三层反应釜的温度控制。

　　2、搅拌罐的温度控制。

　　3、材料测试中的应用。

　　4、蒸馏系统的温度控制。

　　5、工艺过程中的温度变化模拟控制。

　　6、恒温控制系统。

　　7、半导体设备的温度控制。

　　8、汽车工艺中热测试平台的温度控制。

    9、真空室的温度控制。

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